典型工艺

18.2MΩ降TOC超纯水制水典型工艺：

原水→水箱→多介质过滤器→活性炭过滤器→阻垢剂添加→254 nm紫外线(UV)杀菌装置→一级RO装置→二级RO装置→中间水箱→脱气膜组装置→EDI装置→氮封纯水箱→185nm除TOC紫外线(UV)装置→抛光混床→超滤装置→用水点。

集成电路超纯水水质要求及制水工艺

集成电路(IC)是以光学方式把回路印刷到硅芯片上。芯片上的组件或连接组件间的配线线径极微细，只有1~2um或更小。其间若有微粒或微生物附着，易使回路短路。制程中需使用大量高纯度的纯净水洗净，以保有高的良率，以制造1Mbit的DRAM产品其水质技术要求如下：

为生产出符合要求的超纯水，各国均发展出不同方式之设备，此处谨以RO反渗透为主要之处理流程供参考。超纯水系统流程：

典型医药用纯水制备工艺流程

纯化水水质标准：

• 电阻率：≥0.5MΩ.cm（电导率：≤2μS）
• 氨≤0.3μg/ml
• 硝酸盐≤0.06μg/ml
• 重金属≤0.5μg/ml

传统工艺原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透设备→中间水箱→中间水泵→离子交换器→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点。

新工艺原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→微孔过滤器→用水点。

推荐新工艺原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透 →PH调节→中间水箱→第二级反渗透（反渗透膜表面带正电荷）→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→ 微孔过滤器→用水点。

新工艺制药纯化水系统设备清单（以2t/h纯化水设备为例）：